廢ITO靶材回收的核心挑戰在于：
成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結劑、金屬背板（銅/鉬）等。
高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。
銦錫分離：分離銦錫是實現價值化的關鍵。
閉環工藝：價值再造的精益之路
銦屬稀有金屬,是一種重要的電子工業材料,在高技術領域有著廣泛的應用,主要集中在半導體、透明導電涂層、電子器件、熒光材料、金屬有機物等方面。它在地殼中非常稀有而且分散,又稱之為稀散金屬,銦在地殼中的豐度很低,多種文獻報道不一,普遍認為僅011μg/g,至今以其為主要成分的礦床尚未發現,它通常以微量(01005%)的組分共生于與其性質類似的鋅、鉛、銅和錫等礦物上,一般是從鋅、鉛、銅和錫等重金屬冶煉的煙塵、熔渣中回收生產。
ITO靶材的基本介紹：
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應用領域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
隨著科技的飛速發展，ITO靶材的需求量持續增長。然而，ITO靶材的生產過程中需要消耗大量的銦資源，而銦是一種稀有的有色金屬，全球儲量有限。因此，ITO靶材的回收再利用不僅有助于節約資源，還能減少環境污染，實現可持續發展。
