廢ITO靶材回收的核心挑戰在于：
成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結劑、金屬背板（銅/鉬）等。
高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。
銦錫分離：分離銦錫是實現價值化的關鍵。
閉環工藝：價值再造的精益之路
ITO靶材回收流程：
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業。
2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
氧化銦錫(ITO)靶材廣泛應用于平板顯示器和太陽能電池的生產，在ITO目標使用了一段時間后，將其替換為新的目標，用過的ITO靶含有大量的銦，可以通過各種工藝回收。
從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環境的影響降至。
