鄭科探小型濺射儀功能優勢
1、樣品臺旋轉，多樣品同時鍍膜時，鍍膜厚度比較均勻。
2、預濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質，擋板可以保護樣品，提高薄膜質量
3、帶有水冷系統，可以長時間濺射鍍膜，厚度可達1微米以上。
4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬快能達到1-2納米每秒，
5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。
6、可擴展膜厚監測，監測薄膜厚度。
濺射儀使用需注
1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個條件 可以鍍
2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色