磁控濺射儀帶水冷KT-Z1650PVD離子濺射儀為一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。
*外形小巧方便移動
*觸摸屏控制，工藝記憶儲存方便鍍相同樣品
*自動化電動擋板，能自動打開關閉，保證鍍樣時間和保護樣品
*石英＋不銹鋼腔體，方便觀察和清洗
磁控濺射儀帶水冷KT-Z1650PVD廠家供應技術參數；
控制方式
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
濺射電源
直流濺射電源
鍍膜功能
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率
≤1000W
輸出電壓電流
電壓≤1000V 電流≤1A
真空
機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空
≤30Pa
擋板類型
電控
真空腔室
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺
可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速
8轉/分鐘
樣品濺射源調節距離
40-105mm
真空測量
皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預留真空接口
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口